Trumpf levert 200e EUV-laser aan ASML

Trumpf heeft de 200e EUV-laser aan ASML geleverd. De lasers vormen het hart van de lithografiesystemen van ASML. ASML is het belangrijkste Nederlands hightechbedrijf en de belangrijkste leverancier van machines voor de halfgeleiderindustrie, in het bijzonder steppers en scanners, die worden gebruikt bij het maken van chips. Klanten zijn veelal chipproducenten. 

Smartphones met veel gegevensoverdracht en gezichtsherkenning, slimme databrillen, kunstmatige intelligentie of zelfrijdende auto’s hebben krachtige superchips nodig. De sleutel tot de productie van dergelijke chips is EUV, wat staat voor extreem ultraviolet licht.

Bij de productie van deze chips spelen krachtige laserversterkers van Trumpf een belangrijke rol, omdat hiermee een lichtgevend plasma gegenereerd kan worden, dat de EUV voor de belichting van de wafers levert. In nauwe samenwerking met ASML en fabrikant van optische systemen Zeiss ontwikkelde TRUMPF een CO2-lasersysteem, waarmee inmiddels meer dan 100 wafers per minuut bewerkt kunnen worden.

De grote uitdaging bij EUV-licht is: het is moeilijk te genereren, omdat het met 13,5 nanometer bijna in het bereik van de atomaire grootte zitten. Om EUV-licht te genereren, schiet een krachtige laser van Trumpf tinnen druppeltjes 50.000 keer per seconde in een vacuümkamer. Hierdoor ontstaat een plasmaflits met de gewenste golflengte van 13,5 nanometer. Daarna vangen verzamelaars het EUV-licht op dat door het plasma wordt uitgezonden, bundelen het en brengen het over naar het lithografiesysteem voor belichting van de chip.

ASML integreert als machinebouwer alle componenten en zet een machine in elkaar die 180 ton weegt en meer dan 100.000 onderdelen, 3.000 kabels, 40.000 schroeven en meer dan 2 kilometer slangen opslokt.