Imec heeft meest geavanceerde chipmachine in handen

Imec, onderzoekscentrum voor geavanceerde chiptechnologie, heeft de komst bekendgemaakt van de ASML EXE:5200 High NA EUV-lithografiesysteem, meldt Brainport Eindhoven. Het is de meest geavanceerde chipmachine die er nu beschikbaar is. Met deze belangrijke stap krijgen partners van Imec vroeg toegang tot de volgende generatie chiptechnologieën.

Het High NA EUV-systeem werkt samen met geavanceerde meet- en productietools. Zo kan Imec samen met zijn partners chips kleiner dan 2 nanometer ontwikkelen, met betere prestaties voor kunstmatige intelligentie en krachtige computers.

Luc Van den hove, CEO van Imec: “Met de installatie van het EXE:5200 High NA EUV-lithografiesysteem in onze 300mm cleanroom in Leuven (België), willen we deze High NA EUV-patterningtechnologieën naar een voor de industrie relevant niveau brengen en de volgende generatie High NA EUV-patterningtoepassingen ontwikkelen. De ongeëvenaarde resolutie, verbeterde overlay-prestaties, hoge doorvoer en een nieuwe waferstocker die de processtabiliteit en doorvoer verbetert, hebben onze partners een doorslaggevend voordeel bij het versnellen van de ontwikkeling van chips kleiner dan 2 nanometer.”

Europa sterker positioneren

Hij voegt toe: “Als integraal onderdeel van de door de EU gefinancierde NanoIC-pilotlijn, zal het systeem een cruciale rol spelen bij het versterken van Europa’s positie als leider in geavanceerd halfgeleideronderzoek in de komende decennia.”

Christophe Fouquet, CEO van ASML: “De installatie van de EXE:5200 bij Imec markeert een belangrijke stap in het ångström-tijdperk. Samen versnellen we de uitbreidbaarheid van High NA EUV voor de volgende generaties geavanceerd geheugen en rekenkracht.”

Imec verwacht dat het EXE:5200 High NA EUV-lithografiesysteem volledig operationeel is tegen het vierde kwartaal van 2026.